SKIN1004 Madagascar Centella Ampoule Foam

Ампульна пінка для вмивання з екстрактом азіатської центели SKIN1004 Madagascar Centella Ampoule Foam

SKIN1004 Madagascar Centella Ampoule Foam – це ніжна ампульна пінка зі слабокислим рівнем pH 5 для щоденного очищення шкіри. Засіб має кремову текстуру, вишуканий бежево-перламутровий відтінок і утворює пишну піну, яка ефективно і дбайливо видаляє пил, надлишки себуму і залишки макіяжу, не порушуючи природний захисний бар'єр.

Формула збагачена екстрактом азіатської центелли з острова Мадагаскар, який моментально заспокоює запалення, глибоко зволожує і стимулює процеси регенерації. Екстракт какао та екстракт екліпти мають потужну антиоксидантну дію, захищаючи клітини від вільних радикалів та прискорюючи відновлення. Гіалуронат натрію запобігає транепідермальній втраті вологи, а лимонна кислота м'яко відлущує ороговілі клітини, вирівнюючи тон обличчя.

Пінка не пересушує і не залишає почуття стягнутості після вмивання, даруючи шкірі свіжість, гладкість та абсолютний комфорт. Підходить для всіх типів шкіри, включаючи чутливу.

Активні компоненти:

• Екстракт центели азіатської: знімає подразнення та запалення, глибоко зволожує та регенерує;
• Екстракт какао: забезпечує антиоксидантний захист, знижує запальні реакції, підвищує м'якість та еластичність шкіри;
• Гіалуронат натрію: інтенсивно зволожує, утримує вологу в клітинах, розгладжує та пом'якшує;
• Екстракт екліпти: заспокоює, прискорює процеси загоєння та відновлення;
• Лимонна кислота (AHA): м'яко відлущує відмерлі клітини та делікатно освітлює тон.

Ключові переваги та результат:

• М'яке та глибоке очищення: видаляє забруднення, надлишки шкірного себуму та залишки косметики без почуття стягнутості;
• Фізіологічний pH 5: підтримує здоровий мікробіом та гідроліпідний баланс шкіри;
• Турбота та заспокійливий ефект: швидко знімає почервоніння, дискомфорт та подразнення;
• Антиоксидантний захист: нейтралізує вплив вільних радикалів та уповільнює процеси старіння;
• Ідеально для чутливої шкіри: делікатна формула не викликає підсушування та лущення.